点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面,热
缺点电子枪结构复杂,造价高化合物沉积时易分解,化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物,膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅,影响薄膜质量
首先,带有正电位的引弧针(阳极)靠近带有负电位的靶材(阴极),阴阳两极距离足够小时,两极间的气体会被击穿,形成弧电流,这与电焊的引弧相类似。首先,带有正电位的引弧针(阳极)靠近带有负电位的靶材(阴极),阴阳两极距离足够小时,两极间的气体会被击穿,形成弧电流,这与电焊的引弧相类似。此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做TiN涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。此时,部分N2发生离化,形成氮的阳离子以及电子。溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a),一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
以上信息由专业从事金属镀钛加工价格的金常来于2024/4/14 11:09:32发布
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